您好，欢迎访问江苏英特神斯科技有限公司官网

搜索
确认
取消

使用Si (100) 晶片的工艺仿真范例

  • 分类：软件案例
  • 作者：
  • 来源：
  • 发布时间：2022-07-03
  • 访问量：967

使用Si (100) 晶片的工艺仿真范例

【概要描述】

  • 分类：软件案例
  • 作者：
  • 来源：
  • 发布时间：2022-07-03
  • 访问量：967
详情

使用Si (100) 晶片制作八边形结构

 

Si(100) 晶片在KOH溶液中的腐蚀速率分布:

根据下图中的速率分布，从（100）方向进行蚀刻所形成的结构具有四个稳定平面（参见红色圆圈），所得截面为四边形。为了构造一个八边形，我们需要找到四个子级别的稳定平面（请参阅蓝色圈）。

 

版图设计：

在这个想法的指导下，我们设计了一个十字形的版图结构。通过适当地控制腐蚀时间，使四个次要稳定面和四个主要稳定面同时出现，从而形成八边形截面（底孔）。

 

腐蚀结果：

下面的图片分辨从正面和背面展示了Si(100) 晶片腐蚀后的结构。

扫二维码用手机看

上一个: 使用IntelliSuite解决器件性能分析的难题
下一个: 石英双梁结构设计范例
上一个: 使用IntelliSuite解决器件性能分析的难题
下一个: 石英双梁结构设计范例
返回

应用案例

全部分类

了解英特神斯如何帮助你？

邮箱：china@intellisense.com

地址：江苏省南京市江北新区丽新路19号

二维码

Copyright © 2022 江苏英特神斯科技有限公司  版权所有.  苏ICP备08107867号   网站建设：中企动力 南京  SEO