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3D灰度光刻工艺可以实现在Intellisuite的工艺模拟阶段自定义和优化灰度掩模，并可以查看和分析生成的三维结构，这也将使设计师在最初的想法上更具创新性，并且可以为设计师节省更多的时间和资源。
Layout for testing 测试版图
Simulation result 仿真结果
01、灰度掩膜图形生成
在BluePrint中创建灰度掩模图案
1. 创建一个新图层，
2. 在工具菜单中选择脚本编辑器,
3. 填写脚本，
4. 单击运行以生成掩模.
02、3D 曝光
在IntelliFab中创建三维曝光
1. 在数据库中选择 Exposure->UV->3D->Gray-sacle,
2. 在参数中选择mask_no (请注意，该层中的所有图案均被视为灰度掩模图案),
3. 保存文件并在FabSim中进行模拟.
数据库中的3D曝光 选择图层
仿真结果仿 真结果侧视图
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射频开关设计范例
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使用Si (111) 晶片的工艺仿真范例
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