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RECIPE干法蚀刻模块
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RECIPE干法蚀刻模块

功能简介： 模拟RIE/ICP(Bosch Process) 工艺，清晰反映加工工艺如何影响产品成型。
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产品编号
所属分类
工艺级
数量
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产品描述
技术参数

RECIPE — dry etch simulation

Feature highlights

• RIE, ICP, Bosch etch simulation

• Predict final dimension and shape

• Sidewall angle, roughness simulation

• RIE lag simulation

• RIE notching and pinchoff simulation

• Multi-etch capability

• Process deviation studies

 

江苏英特神斯科技有限公司

 

Real world simulation capability

 

江苏英特神斯科技有限公司

 

Dry Etching Simulator- RECIPE

 

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Dry Etching Simulator- RECIPE

 

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模拟RIE/ICP(Bosch Process) 工艺，清晰反映加工工艺如何影响产品成型。

◆ 可调节侧边的圆齿、粗糙度及周期;

◆ RIE和DRIE的lag效应;

◆ 模拟最终实体形貌、侧面角度;

◆ 考虑掩膜影响;

◆ 为特定截面创建工艺参数可调整的结构;

◆ 支持Footing效应模拟;

◆ 支持工艺参数计算;

◆ DRIE刻蚀速率及深宽比校准工具。

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