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IntelliEtch高级干湿法刻蚀模块
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IntelliEtch高级干湿法刻蚀模块

功能简介: 基于原子模型的精确湿法刻蚀工艺模拟;集成DRIE和多次掩膜复合工艺功能;基于八叉树和并行计算的元胞自动机及动力学蒙特卡罗模型;完备的刻蚀工艺数据库,面向用户的开放的接口;
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产品描述
技术参数

 

Microneedle array process simulation

 

 

Wagon Wheel Analyzer II

 

 

Etching process simulation

for a Piezoresistive Accelerometer

 

 

Anisotropic etching of silicon/quartz

 

 

 

Quartz etching

​Etching of X-grooves

 

 

Aligned triangles

 

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◆ 基于原子模型的精确湿法刻蚀工艺模拟;

◆ 集成DRIE和多次掩膜复合工艺功能;

◆ 基于八叉树和并行计算的元胞自动机及动力学蒙特卡罗模型;

◆ 完备的刻蚀工艺数据库,面向用户的开放的接口;

◆ 可定义和切割任意高指数晶面;

◆ 精确描述腐蚀表面形貌;

◆ 兼容IntelliMask版图文件和Bmp掩膜文件;

◆ 输出FEM网格数据;

◆ 基于GPU大规模并行计算的IntelliEtchG;

◆ Wagon Wheel Analyzer 硅刻蚀速率提取工具;

◆ Etch Rate Visualizer / CCA calibrator 硅刻蚀速率可视化及校准工具;

◆ Wagon Wheel Analyzer II 石英刻蚀速率提取工具。

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