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Exposure光刻仿真模块
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Exposure光刻仿真模块

功能简介: 模拟MEMS厚胶物理光刻工艺,采用物理仿真算法与物理模型精细反应SU8等厚胶光刻效果。
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产品编号
所属分类
工艺级
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产品描述
技术参数

Exposure (Lithography module)

·Deep resist/SU8 simulator

·Dynamic 3D CA models

·Integrated simulation of:

·Exposure

·Post exposure bake

·Develop

·Material databases

 

江苏英特神斯科技有限公司

 

Exposure

 

江苏英特神斯科技有限公司

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模拟MEMS厚胶物理光刻工艺,采用物理仿真算法与物理模型精细反应SU8等厚胶光刻效果。

◆ 支持影像成型、曝光、后烘、显影四大步骤模拟;

◆ 精细的曝光前后光照模型;

◆ 支持多层mask文件版图设置;

◆ 支持三维显示结果精细测量。

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