使用Si (111) 晶片的工艺仿真范例
2022-07-04 13:33
使用Si (111) 晶片制作八边形结构
与（100）晶向类似，根据下图中的速率分布，从（111）晶向进行蚀刻形成的结构具有三个稳定平面（请参见红色圆圈），截面为三角形。如果蚀刻时间合适，则还可以保留底面(背面)的三个稳定平面，这样就可以获得六边形。但是如果要获得八边形，这是一个非常困难的过程。您需要仔细设计布局，结合一些不稳定的平面以获得所需的结构，这也意味着蚀刻时间也需要非常精确的控制。
根据以上分析，我们设计了如下所示的布局。通过适当地控制蚀刻时间，两个不稳定平面和主要的六个稳定平面同时出现，并且可以获得八边形截面。如果继续蚀刻，八边形将变成六边形。
下面的图片展示了腐蚀结果随时间的变化过程。
